水分（H?O）是高純氫氣中另一項必須被嚴格管控的核心雜質(zhì)。根據(jù)《GB/T 3634.2—2011》標準，高純氫的水分含量（體積分數(shù)）上限被設(shè)定為3×10??（3ppm），

而超純氫的要求則更為極致，必須低于0.5ppm。這一看似微小的數(shù)值背后，隱藏著對產(chǎn)品質(zhì)量和工藝穩(wěn)定性的巨大影響。

水分的危害是多方面的。在電子工業(yè)中，水分會腐蝕精密的集成電路和金屬互連線，導(dǎo)致器件性能漂移甚至失效。

在金屬粉末冶金和硬質(zhì)合金生產(chǎn)中，水分在高溫下會分解產(chǎn)生氫氣和氧氣，前者可能導(dǎo)致產(chǎn)品“氫脆”，后者則會引起金屬氧化，

嚴重影響最終產(chǎn)品的機械強度和致密度。因此，對高純氫進行精準、可靠的水分檢測，是保障下游應(yīng)用成功的關(guān)鍵前提。

面對如此低的檢測限要求，傳統(tǒng)的露點儀或電解法已難以勝任。GB/T 3634.2—2011標準明確指定了光腔衰蕩光譜法（Cavity Ring-Down Spectroscopy, CRDS）

作為水分測定的仲裁方法（依據(jù)GB/T 5832.3）。CRDS技術(shù)通過測量特定波長激光在高反射率光學(xué)諧振腔內(nèi)的衰減時間來反演氣體濃度。

其原理在于，腔內(nèi)水分分子會吸收激光能量，導(dǎo)致光強衰減加快。該方法具有無與倫比的靈敏度（可輕松達到ppb級）、極高的精度和穩(wěn)定性，并且?guī)缀醪皇芷渌麣怏w組分的干擾。

雖然標準也允許使用其他等效方法，但一旦檢測結(jié)果出現(xiàn)爭議，CRDS法的結(jié)果將作為最終裁決依據(jù)。通過這種尖端的光學(xué)檢測技術(shù)，

我們能夠?qū)Ω呒儦渲械乃诌M行“顯微鏡”級別的監(jiān)控，確保其干燥度滿足最嚴苛的工業(yè)應(yīng)用需求。